天眼查App顯示，上海新陽半導體材料股份有限公司于2023年6月30日公開了一項名為“一種清洗液”的發明專利，專利號為CN202310795373.1。該清洗液的原料包括氧化劑、胺類有機物、緩蝕劑、螯合劑、表面活性劑及水，各組分質量分數之和為100%。
該清洗液的特點在于不含氟化銨和金屬離子，具有對刻蝕后殘余物的優異清洗效果，同時能夠選擇性移除TiN硬遮罩，并抑制銅或銅合金及鈷或鈷合金的損傷。這一創新技術預計將廣泛應用于半導體制造領域，提升生產效率和產品質量。
該專利的發明團隊由王溯、蔣闖、馮強強、陳曉顏和張敏康組成，專利的公開標志著上海新陽在半導體材料研發領域的新突破。
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